CRF電漿清洗機(jī)應(yīng)用下對(duì)負(fù)載型鑭系氧化物催化劑CO2氧化CH4制C2：
       負(fù)載型鑭系氧化物催化劑具有良好的OCM反應(yīng)活性。在催化活化CO2氧化CH4制C2烴反應(yīng)中，La203/ZnO給出了高達(dá)97%的C2烴選擇性（850℃時(shí)甲烷轉(zhuǎn)化率為2.1%），Maraffee等的研究表明：在電暈放電應(yīng)用下，以La203為主體的催化劑給出了較高的CH4轉(zhuǎn)化率（27.4%）和C2烴收率（10%）。對(duì)此，本次著重研究了La、Ce、Pr、Sm、Nd五種負(fù)載型鑭系氧化物催化劑對(duì)等離子體應(yīng)用下CO2氧化CH4制C2烴反應(yīng)的催化作用。

       在一定的電漿清洗機(jī)等離子體應(yīng)用下，負(fù)載型鑭系氧化物催化劑均表現(xiàn)出一定的活化CH4、CO2的能力。鑭系催化劑與等離子體共同應(yīng)用的結(jié)果是，CH4轉(zhuǎn)化率在24%~36%；二氧化碳轉(zhuǎn)化率在18%~22%。試驗(yàn)結(jié)果表明等離子體應(yīng)用下，不同的鑭系催化劑對(duì)CH4活化能力差別較大，而活化二氧化碳的能力相近（與單純等離子體應(yīng)用下的CO2轉(zhuǎn)化率20%相近)。依據(jù)鑭系催化劑在單純催化條件下均具有一定催化活性的試驗(yàn)事實(shí)。可以得出在電漿清洗機(jī)等離子體應(yīng)用下，催化劑可實(shí)現(xiàn)表面反應(yīng)參與了甲烷的C-H鍵斷裂過程。對(duì)CH4活化而言：鑭系催化劑與CRF電漿清洗機(jī)等離子體的共同應(yīng)用活化CH能力存在差異，其共同應(yīng)用能力大小順序如下：Nd203/Y-Al203>CeO2/Y-Al203>Sm203/Y-Al203>Pr2O11/Y-Al203>La2O3/Y-Al2O3。
       根據(jù)C2烴選擇性由大至小排列催化劑活性順序是：La2O3/Y-Al2O3>CeO2/Y-Al203≈Pr2O11/Y-Al203>Sm203/Y-Al2O3>Nd203/Y-Al2O3。C2烴選擇性結(jié)果與鑭系催化劑對(duì)C2烴收率的影響相比，兩者的順序大致相同，盡管La2O3/Y-Al2O3催化劑與電漿清洗機(jī)等離子體共同應(yīng)用下甲烷轉(zhuǎn)化率較低，但由于C2烴選擇性高于70%，所以C2烴收率高于其他稀土催化劑。這與La2O3催化劑在單純催化條件下的高C2烴選擇性較為一致。不過鑭系催化劑對(duì)C2烴產(chǎn)物分布影響不大，C2H2是主要的C2烴產(chǎn)物。