20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家
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CRF-APS- 500W
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立即咨詢等離子清洗機，又名等離子處理機，等離子表面處理設(shè)備。其基本原理是：在清理過程中，由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產(chǎn)生物理學和化學變化。物理反應(yīng)原理是活性顆粒轟擊待清理表層，使污染物擺脫表層，污染物被排出；化學變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應(yīng)形成揮發(fā)物化學物質(zhì)抽出，進而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。
500強企業(yè)長期選擇品牌
20年自主研發(fā)經(jīng)驗 500強企業(yè)案例 多項技術(shù)專利認證
通過歐盟CE認證 采用進口器件部件 然您無憂使用
專業(yè)的研發(fā)團隊
擁有多名從業(yè)十多年的組裝工程師
先進的設(shè)備
認真對待每一次設(shè)備試驗
嚴格的質(zhì)量控制
設(shè)備出廠前連續(xù)24小時運行調(diào)試
完善的服務(wù)體系
集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)
服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛
專注等離子研發(fā)20年，服務(wù)多種行業(yè)
可特殊定制設(shè)備
完全按照客戶需求制作設(shè)備
CRF plasma 等離子清洗機 版權(quán)所有 ?2025
