CRF-等離子處理機(jī)清洗原理、優(yōu)勢(shì)和作用分別都有解釋：
       CRF等離子處理機(jī)清洗原理：經(jīng)過化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行清理，實(shí)現(xiàn)分子水平的污染源去除（一般厚度為幾個(gè)～幾十個(gè)nm）。被去除的污染源很有可能為有機(jī)物、環(huán)氧樹脂膠、光刻技術(shù)、氧化物、微顆粒污染物等。相應(yīng)不同類型的污染源，應(yīng)選擇不同的清洗工序。依照清洗原理可分為：物理清洗和化學(xué)清洗。

        CRF等離子處理機(jī)的優(yōu)越性：等離子清洗工序能夠獲得真正的清洗；與等離子清洗相比，水洗清洗通常只是一種稀釋過程；與C02清洗技術(shù)相比，等離子清洗不需要耗費(fèi)其它材料；與噴砂清洗相比，等離子清洗可以處理材料的完整表面結(jié)構(gòu)，而不僅僅是表層突出部分；可以在線集成，無需額外空間；低運(yùn)行成本，環(huán)保的預(yù)處理工序。
        CRF等離子處理機(jī)作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵重新結(jié)合，形成新的表面特征。對(duì)于某些特殊材料，等離子處理機(jī)的輝光放電不僅提高了材料的附著力、相容性和潤(rùn)濕性，而且對(duì)其進(jìn)行了消毒。對(duì)于等離子體的處理時(shí)間，離子體處理聚合物表面的交聯(lián)、化學(xué)改性和蝕刻主要是由于等離子體斷開聚合物表面分子，產(chǎn)生大量的自由基。實(shí)驗(yàn)表明，隨著等離子體處理時(shí)間的延長(zhǎng)，放電功率增加，自由基強(qiáng)度增加，達(dá)到一定值后進(jìn)入動(dòng)態(tài)平衡較大，即低溫等離子體在特定條件下對(duì)聚合物表面反應(yīng)較深。