CRF等離子體清潔機sop操作流程介紹：
       CRF等離子體清潔機能通過調整原材料的表面來增強表面能量，粘接，印刷和潤濕。并且還可以提供等離子體的防水涂層產品。實際上，絕大多數的材料都能夠等離子處理。

       等離子表面處理設備處置的污染物基本上都是無形的，應屬納米級。這種污染物影響到物體與其他物質如膠水或墨水相互作用的能力。用等離子體處理物體表面，可去除有機化合物。等離子表面處理設備能夠提高粘結劑或焊料的粘結力和印刷穩定性。本工藝適用于光亮塑料和橡膠，雜質去除后可直接印刷粘合。等離子體清潔機可廣泛應用于原材料的表面活化改性，以提高其粘結性能等。下面介紹等離子體清潔機的清洗原理：
1、清洗后的工件送入真空等離子清洗機的空腔并固定，啟動操作裝置，開始排氣，使真空室的真空度達到標準的10帕，一般排放時間約為幾十秒。對等離子體進行未經化學處理的任何一種表面改性方法，稱為干蝕。在等離子蝕刻過程中，所有等離子清洗的產品都是干腐蝕的。等離子體腐蝕類似于等離子體清洗。而等離子蝕刻則是用來去除已處理表面層雜質。
2、將經等離子體清潔機的氣體引入真空室，并保持內腔壓力穩定。根據清潔原材料的不同，可以分別使用氧氣，氬氣，氫氣，氮氣，四氟化碳等氣體。氧-等離子體處理是目前常用的干法腐蝕方法之一。氧(有時與氬混合)用于處理鋁、不銹鋼、玻璃、塑料和陶瓷表面。
3、等離子體清潔機真空室內電極與接地設備之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并發生輝光放電，產生等離子體，將處理過的工件完全覆蓋真空室內產生的等離子體，開始清洗作業，一般清洗處理持續時間從幾十秒到幾分鐘不等。蝕刻機可以讓等離子體腐蝕印制電路板，使其具有更好的粘合性能，如粘合性和裝飾性。
4、CRF等離子體清潔機處理完成后，切斷電源，通過真空泵排出氣體和汽化污物。