等離子設(shè)備主要是利用汽體電離生成等離子，這其中帶有電子、離子、官能團和紫外線等高能成分，對材料表面起到（活）化目的。舉例來說，電子質(zhì)量小、移動速度快，能夠先一步到達(dá)材料表面并使其帶上負(fù)電荷，同時對材料表面生成沖擊目的，能促使在表面上被吸附的汽體分子解吸或分解，也有利于引發(fā)化學(xué)反應(yīng)；材料表面帶負(fù)電荷時，帶正電荷的離子會加速向其沖擊，濺射目的會干擾表面附著的粒子性成分除掉；等離子中官能團的存在對除污目的很重要，因為官能團容易與物品表面發(fā)生化學(xué)連鎖反應(yīng)，生成新的官能團或進(jìn)一步分解，分解為揮發(fā)性小分子；而紫外線具有極強的光能和穿透能力，在材料表面利用數(shù)微米深度目的，因而使表面附著物質(zhì)的分子斷裂分解。

(1)電離氣壓:相對于低壓等離子，電離氣壓增高，等離子密度升高，電子溫度（降）低。等離子設(shè)備的除污功能與密度和電子溫度有關(guān)。如果密度越大，清洗速度越快，電子溫度越高，除污功能越好。所以，低壓等離子設(shè)備除污工序的選擇是很重要的。
(2)蒸汽的種類:被清理對象的基材及其表面污染物具有多樣性，但蒸汽電離引起的等離子的污染速度和污染功能大不相同。因此，應(yīng)選擇等離子工作蒸汽，如氧等離子設(shè)備處理表面的油污，并選擇H2、Ar混合氣體等離子等離子去除氧化層。
(3)電離功率:增強電離功率，增加等離子密度和活性顆粒能量，因而增強去污漬功能。舉例來說，氧氣等離子設(shè)備的密度與電離功率密切相關(guān)。
(4)接觸時間：待除污材料在等離子設(shè)備中的接觸時間對除污功能和等離子工作效率有重要干擾。較長的接觸時間，除污功能相對較好，但工作效率較低。而且，過長時間的除污可能會損壞材料的表面。
(5)傳動速度：相對于大氣等離子設(shè)備除污工序，在清理大型的物品的時候會涉及連續(xù)傳動問題。所以待除污物品和電極的相對運動越慢，清理功能就越好，但是過慢一方面會干擾工作效率，另一方面會干擾材料表面損傷，因而干擾清理時間延長。
(6)其它：等離子設(shè)備除污工序中的汽體分配、氣體流量、電極的設(shè)定等主要參數(shù)也會干擾除污功能。所以要根據(jù)實際情況和除污要求，設(shè)定具體、合適的工序主要參數(shù)。
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