UV紫外外光分析和真空等離子清洗機(jī)技術(shù)是有機(jī)廢氣處理中常用的2種方法。兩者均可將廢氣中的有機(jī)成分分解成無害的水和CO2，從而防止二次污染。但兩者，各有利弊。
       紫外光解是一種雙光譜特性，使用特殊的低壓紫外燈同時(shí)發(fā)射185納米和254納米紫外線。發(fā)射的185nm紫外光，能夠在空氣中觸發(fā)02(氧)，并轉(zhuǎn)化成03(臭氧)。臭氧層具有很強(qiáng)的氧化能力，與廢氣中的烴(如苯、烴、醇、脂等)充分混合接觸。)，在燈管發(fā)出254納米紫外線的催化條件下，可直接氧化分解H2O和CO2。可見，由紫外燈管發(fā)出的185nm紫外光可以當(dāng)做氧化劑；而燈管發(fā)射的254nm紫外線，則可以當(dāng)做必要的條件使光解反應(yīng)得以順利進(jìn)行。然而，紫外線燈管產(chǎn)生臭氧層的能力很低。例如，最常用的臭氧紫外線燈管是150WU形。當(dāng)氧氣充足時(shí)，每小量只有6毫克/瓦。在光解反應(yīng)中，臭氧是一種關(guān)鍵的反應(yīng)物質(zhì)，其產(chǎn)生量的多少直接影響到處理效果。等離子體技術(shù)是利用高壓電場，使空氣中的02電離產(chǎn)生03，其臭氧產(chǎn)生效率比紫外燈要高很多。本實(shí)用新型采用激發(fā)式真空等離子清洗機(jī)作為清洗設(shè)備，能合理地防止被清洗物對二次污染。本機(jī)裝置配有真空泵，在保持真空設(shè)備內(nèi)腔真空的條件下，能夠快速、徹底地清除真空等離子體中反應(yīng)的污染物，能夠在短時(shí)間內(nèi)迅速、徹底地去除污染物。

       所以，我們把這2種處理方法結(jié)合起來。在光解設(shè)備的前部安裝了真空等離子清洗機(jī)，真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)生的03與有機(jī)廢氣混合，通過紫外線燈管流動。紫外光管可進(jìn)一步激發(fā)03的產(chǎn)生，同時(shí)在254nm紫外光的催化作用下，03與有機(jī)物的反應(yīng)效率大大提高，從而獲得了理想的處理效果。因?yàn)殡姖{燈比紫外燈管具有更高的臭氧產(chǎn)生效能，使設(shè)備的耗能隨之降低，節(jié)能效果顯著。目前常用的等離子技術(shù)有非真空和真空2種類型。直立式和蜂窩式兩種真空等離子清洗機(jī)，它們需要的額定電壓非常高，約1.5~18000伏，因此對系統(tǒng)的絕緣要求非常高。使用過程中產(chǎn)生的電弧較大，且直接與空氣接觸，用于處理易燃?xì)怏wI藝時(shí)，存在很大的火災(zāi)隱患。
目前的真空等離子清洗機(jī)均采取軟玻璃制造，具有以下優(yōu)點(diǎn)：
1、所需額定電壓大幅度降低，約2-3千伏，從而大大降低了系統(tǒng)絕緣要求，同時(shí)減少了由高壓電火花引發(fā)易燃?xì)怏w的可能性；
2、所產(chǎn)生的電弧大部分是封閉在真空管道內(nèi)，更使火災(zāi)發(fā)生的可能性大大降低。但是軟料玻璃的缺點(diǎn)是，在工作環(huán)境溫度變化較大的情況下，很容易出現(xiàn)裂紋，而真空狀態(tài)被破壞，不能繼續(xù)工作。它的穩(wěn)定性很差，使用壽命短，限制了其在生產(chǎn)中的實(shí)際應(yīng)用。
       CRF真空等離子清洗機(jī)方案設(shè)計(jì)合理合理，需要不同材料的配合。防靜電托架可避免靜電對產(chǎn)品造成的影響。等真空等離子清洗機(jī)可以在等離子轟擊或發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的基礎(chǔ)上對產(chǎn)品表面進(jìn)行離子注入、活化和清潔。在面層上進(jìn)行粘接，可以顯著提高粘接強(qiáng)度。