CRF等離子體表面處理儀工作特點以及等離子體鞘層現象震蕩特點講解：
       CRF等離子體表面處理儀廣泛應用于電子設備、通訊、汽車、紡織、生物醫藥等領域。如電子器件，液晶/OLED屏的涂覆處理，PC塑料框的涂覆處理，機殼和鍵鈕等結件表面的油印處理，印刷電路板表面除膠除污清洗，電鏡膠水粘貼，電線電纜噴涂處理，對汽車行業燈罩、剎車片、門封膠條進行涂覆處理，機械行業金屬件進行無微不至的清潔處理，鏡面鍍膜前處理，各種工業材料的接合與密封處理，立體物體表面的修飾處理等。
       誠峰等離子體表面處理儀包括一個反應腔，電源和一套真空泵。將樣品放入反應腔內，真空泵開始抽氣至一定真空度，電源啟動便產生等離子體，氣體通過反應腔內的等離子體進入反應腔內，與樣品表面發生反應，產生揮發性副產物，并由真空泵抽出。

一、等離子體表面處理儀等離子在宏觀上是電荷平衡
       通常情況下，等離子呈現電荷平衡，但在受某種干擾時，電漿內部會出現局部電荷分離，產生電場。例如，將帶正電荷的小球置于等離子體中，它會吸引等離子體中的電子器件并排斥這些離子，從而在小球周圍形成一個帶負電的球形“電子云”。
二、誠峰等離子體表面處理儀有著震蕩特點
        通常等離子體處于平衡狀態時，其密度分布在宏觀上是均勻的，但在微觀上則是有升有降，且不均勻，且密度波動有著震蕩性。
三、誠峰等離子體表面處理儀等離子體有鞘層現象
       由于等離子體初處于準電荷平衡狀況，假如在等離子體中掛1塊不導電的絕緣襯底，則該襯底中的離子和電子器件都會朝著該襯底移動，單位時間內到達該襯底的電子器件數量遠遠大于離子數量。達到基底的電子器件部分與離子復合，其余部分是離子，因此，基底表面會產生負電荷積累，從而形成基底表面負電勢。這個負電勢會排斥后續的電子器件，同時吸引正離子。當基片的負電勢達到一定的程度，離子流就會變成電子流。因為基底是負電勢，所以在基底和等離子體的交界處形成了由正離子構成的空間電荷層，也就是離子鞘層。`