crf真空等離子清洗機(jī)對雙基片臺表面的改性有什么效果：
       金剛石有著強(qiáng)的硬度、熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性及其光學(xué)反射率等物理和化學(xué)性能，這些優(yōu)異性能，使得金剛石在許多領(lǐng)域都可以作為一種理想材料。例如可以用作電子束引出窗口、高頻高功率電子器件、高靈敏的表面聲學(xué)波濾波器、切削工具等。

       crf真空等離子清洗機(jī)化學(xué)氣相沉積(MPCVD)金剛石進(jìn)行合法性制備，MPCVD法制金剛石的優(yōu)勢變得十分明顯，世界高端金剛石基本上都是通過MPCVD與其他生長方法相比，MPCVD法律原因具有無極放電、生長速度快、金剛石雜質(zhì)少等優(yōu)點(diǎn)，已成為金剛石生長的理想方法。
       近年來，MPCVD技術(shù)獲得了較大突破，對金剛石沉積工藝參數(shù)影響的探討已經(jīng)趨于成熟，但對MPCVD裝置諧振腔的研究還有待進(jìn)一步深人。微波諧振腔是MPCVD該裝置的核心部件和不同射頻真空等離子體清洗機(jī)的微波諧振腔結(jié)構(gòu)會影響電場的強(qiáng)度和分布，從而影響等離子體的狀態(tài)，并相應(yīng)地影響鉆石沉積的質(zhì)量和速率。MPCVD裝置微波諧振腔的結(jié)構(gòu)探討對于金剛石生長方面也是有著價(jià)值的。
       常用的MPCVD法生長金剛石所用的諧振腔有不銹鋼諧振腔式和石英鐘罩式，石英鐘罩式利于生長大面積的金剛石薄膜，但速率較慢且容易污染石英管，而不銹鋼諧振腔式設(shè)備則有著生長速率快的特點(diǎn)。