21世紀工業上的添加劑-等離子體發生器的使用現狀：
       等離子體發生器是物理清洗設備之一。其基本原理是將汽體用作等離子體發生器的物質，有效的地防止了鑒于液體清理物質給清理物帶來的二次污染。等離子體發生器外接真空泵，清理腔內的等離子體在工作時輕輕沖洗被清理物的表層，短期內的清理可使有機污染源完全徹底清理，同時將污染源用真空泵吸出，清理程度達到分子級。
       等離子體發生器除具有超清潔功能外，在特定條件下，還可以根據須要更改一些資料的表層特性，等離子體作用于資料表層，使表層分子的化學鍵重組，形成新的表層特性。對于一些特殊用途資料，超清理時等離子清洗器的輝光放電可以增強這些資料的粘附、相容性和浸潤性。目前廣泛應用在在光學、光電子、電子、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域有廣泛的使用。

       20世紀初，隨著高技術產業的迅速發展，等離子體發生器的使用日漸廣泛，使用范圍不斷擴大，現在已經處于眾多高新技術領域中，處于核心技術的位置，等離子體發生器技術對工業經濟和人類文明的影響最大，首當其沖的是電子信息行業，特別是半導體和光電行業。
       等離子體發生器已經被用于各種電子元件的制造中，我們可以肯定，沒有等離子體發生器及其清理技術，就沒有今天這樣發達的電子、信息、通信行業。另外，等離子體發生器及清理技術在光學、機械、航天、高分子工業、也是產品提升的關鍵技術，例如，光學元件鍍膜，抗磨損層，用于延長模具或加工工具壽命的復合材料中間層，織布或隱含鏡片的表面處理，微傳感器的制造，超微機械的抗摩擦層等都須要等離子技術的發展才能完成，等離子體發生器的使用將逐步得到普及和推廣。